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2T/h二級反滲透設(shè)備

  • 更新時(shí)間:2020-10-20
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  • 簡要描述:2T/h二級反滲透設(shè)備是一種借助于選擇透過(半透過)性膜的功能以壓力為推動(dòng)力的膜分離技術(shù),當(dāng)系統(tǒng)中所加的壓力大于進(jìn)水溶液滲透壓時(shí),水分子不斷地透過膜,經(jīng)過產(chǎn)水流道流入中心管,然后在一端流出水中的雜質(zhì),如離子、有機(jī)物、細(xì)菌、病毒等,被截留在膜的進(jìn)水側(cè),然后在濃水出水端流出,從而達(dá)到分離凈化目的。
  • 產(chǎn)品簡介

2T/h二級反滲透設(shè)備是一種現(xiàn)代新型的純凈水處理技術(shù)。通過反滲透元件來提高水質(zhì)的純凈度,清除水中含有的雜質(zhì)和鹽。我們?nèi)粘K嬘玫募儍羲际墙?jīng)過反滲透設(shè)備處理的,水質(zhì)清澈。

上比較早使用反滲透技術(shù)的國家是美國,發(fā)明了以動(dòng)力差為動(dòng)力的膜分離技術(shù)。隨著該技術(shù)的推廣,我國開始使用反滲透技術(shù)。市場上的純凈水設(shè)備都是采用的反滲透膜處理技術(shù),并且在我國經(jīng)過了一定的改良和設(shè)計(jì)創(chuàng)新。技術(shù)已經(jīng)非常成熟。

反滲透純凈水設(shè)備中設(shè)計(jì)了一種反滲透膜。膜兩側(cè)的壓力不同,通過兩側(cè)的壓力為動(dòng)力,壓迫原水通過反滲透膜,鹽的濃度低的會(huì)向濃度高的鹽方向滲透,能夠達(dá)到的平衡狀態(tài)下,就是液體的滲透壓。當(dāng)含有的鹽水一側(cè)的壓力對于另一側(cè)的滲透壓力時(shí)候,就會(huì)發(fā)生反方向的流動(dòng),就產(chǎn)生了反滲透過程。

反滲透純凈水設(shè)備都是采用了這種技術(shù),采用了自動(dòng)供水和斷水的智能化控制,這就是純凈水設(shè)備。

反滲透技術(shù)因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應(yīng)用。反滲透凈水設(shè)備的清洗問題可能使許多技術(shù)力量不強(qiáng)的用戶遭受損失,所以要做好反滲透設(shè)備的管理,就可以避免出現(xiàn)嚴(yán)重的問題。

二級反滲透設(shè)備在正常運(yùn)行條件下,反滲透膜也可能被無機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質(zhì)沉積在膜表面上會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷,因此,為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能,需要對膜進(jìn)行化學(xué)清洗。

一般3~12個(gè)月清洗一次,如果每個(gè)月不得不清洗一次,這說明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng),調(diào)整的運(yùn)行參數(shù)。如果1~3個(gè)月需要清洗一次,則需要提高設(shè)備的運(yùn)行水平,是否需要改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。

R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用,為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結(jié)晶析出,損壞膜原件的應(yīng)有特性,在進(jìn)入反滲透膜組件之前,應(yīng)使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽,SiO2,硫酸鹽的晶體析出.

采用精密過濾器對進(jìn)水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除,使RO系統(tǒng)等后續(xù)設(shè)備運(yùn)行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯,目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止其進(jìn)入損壞膜的表面,從而損壞膜的脫鹽性能。

是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般是水)通過反滲透膜(或稱半透膜)而分離出來,因?yàn)檫@個(gè)過程和自然滲透的方向相反,因此稱為反滲透。反滲透法能適應(yīng)各類含鹽量的原水,尤其是在高含鹽量的水處理工程中,能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。反滲透法的脫鹽率提高,回收率高,運(yùn)行穩(wěn)定,占地面積小,操作簡便,反滲透設(shè)備在除鹽的同時(shí),也將大部分細(xì)菌、膠體及大分子量的有機(jī)物去除。

2T/h二級反滲透設(shè)備主要用途

⒈制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水;

⒉制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水;

⒊制取醫(yī)藥工業(yè)所需的醫(yī)用大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、醫(yī)用無菌水及人工腎透析用純水等;

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